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日本人還沒封死的光刻膠 我們已經(jīng)到了火燒眉毛了

2023-08-03 19:33:20 編輯:閻家燕 來源:
導讀 7月23日開始,日本針對尖端半導體制造設備的出口管制措施已經(jīng)正式開始生效。此次生效的管制產(chǎn)品總共有六大類23種設備,這些設備都被納入到出口限制名單中,基本上是覆蓋了芯片光刻和檢測的各種環(huán)節(jié)中。

7月23日開始,日本針對尖端半導體制造設備的出口管制措施已經(jīng)正式開始生效。此次生效的管制產(chǎn)品總共有六大類23種設備,這些設備都被納入到出口限制名單中,基本上是覆蓋了芯片光刻和檢測的各種環(huán)節(jié)中。如果各企業(yè)想要讓這些設備出口,就必須向日本政府申請出口許可證,只有獲得批準才能夠出口到一些指定的國家和地區(qū)。

此次日本做出的出口限制,主要都是針對一些設備而言,并沒有對半導體材料方面做出一些限制,此前大家一直擔心的光刻膠并沒有在此次出口管制措施中進入名單。光刻膠作為光刻工藝當中非常重要的材料之一,它的純度和質(zhì)量都直接決定了芯片的良品率。雖然日本人并沒有卡死光片膠的出口方面,但是我們也應該加快光刻設備和材料的國產(chǎn)化研制。

不管是哪一個國家的半導體行業(yè),光刻膠一旦被人斷供,那么可以說是非常要命的事情。比如2019年日本與韓國翻臉,日本停止向韓國出口光刻膠,結果三星半導體的第一代三納米制程芯片良品率僅有10到20%左右。導致這種情況的最主要原因就是三星的光刻膠材料純度不夠,不過這一點也把韓國人給逼急了。2022年的12月份,三星就宣布了韓國東進半導體研發(fā)的euv光刻膠已經(jīng)成功運用。

之所以光刻膠會成為卡脖子的關鍵因素,主要是高端光刻膠需要嚴格的控制金屬雜質(zhì)含量,想要做到這一點是十分困難的,國內(nèi)的精細化工方面嚴重不足,所做出的金屬材料雜質(zhì)含量也比要求大了很多級別。除此之外,高端光刻膠生產(chǎn)的時候還需要使用反應釜,這種材料是需要鍍膜的,國內(nèi)的相關工藝水平比較低,想要做這一些設備就需要從國外進口。


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