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半導(dǎo)體芯片迎大突破 全新的鐵電晶體管更小 更快 更節(jié)能

2023-07-15 17:49:51 編輯:支宇珊 來源:
導(dǎo)讀 近日,美國賓夕法尼亞大學(xué)工程與應(yīng)用科學(xué)學(xué)院的研究人員正式推出了一種新的fe-fet設(shè)計,這項(xiàng)設(shè)計在計算和存儲方面有了破紀(jì)錄的性能表現(xiàn)。據(jù)...

近日,美國賓夕法尼亞大學(xué)工程與應(yīng)用科學(xué)學(xué)院的研究人員正式推出了一種新的fe-fet設(shè)計,這項(xiàng)設(shè)計在計算和存儲方面有了破紀(jì)錄的性能表現(xiàn)。據(jù)了解,采技術(shù)打造算的精的晶體管,在鐵電材料碳化鋁抗上,覆蓋了一種叫做二硫化鉬的二維半導(dǎo)體,通過這樣的方式證明了這兩種材料可以結(jié)合在一起,從而制造出對工業(yè)制造更加有吸引的晶體管。研究人員表示,將鐵電絕緣體材料和二維半導(dǎo)體材料結(jié)合在一起,能夠讓兩者變得更加的節(jié)能,這樣就可以運(yùn)用在計算和存儲方面,提升整個設(shè)備的效率。

據(jù)了解,這個設(shè)備允許每個單獨(dú)的設(shè)備以最小的表面積運(yùn)行,而且這些微型設(shè)備還能夠擴(kuò)展到工業(yè)平臺的大型陣列方面,整個半導(dǎo)體設(shè)備只有0.7納米,最初的時候并不確定他們是否能夠承受鐵電材料中的大量電荷。但是讓人感到驚訝的是,他們不僅能夠承受這些電荷,而且還能讓半導(dǎo)體攜帶的電流量突破原先的記錄。

針對這樣的性能表現(xiàn),研究人員表示,一個設(shè)備能夠攜帶的電流越多,那么這個設(shè)備在計算機(jī)應(yīng)用上的運(yùn)行速度就會變得越來越快,電阻越低的話存儲器的訪問速度也就會變得越快。除此之外,此次兩個不同材料的結(jié)合也是晶體管技術(shù)的全新突破,可以幫助一些元器件變得更加小型化,在這一次的新研究中,使用了20鐵電材料和0.7那米的納米的moS 2設(shè)備,能夠讓整個設(shè)備更可靠的去存儲數(shù)據(jù)。

該研究團(tuán)隊還表示,下一步中,團(tuán)隊的工作目標(biāo)將會集在設(shè)備的小型化處理上,去生產(chǎn)在足夠電壓下工作的一些設(shè)備。通過這樣的方式,打造出更加兼容領(lǐng)先的消費(fèi)設(shè)備資源,隨著后續(xù)的技術(shù)發(fā)展,很多的功能設(shè)備都可以在實(shí)際應(yīng)用中占據(jù)一席之地,尤其是那些支持人工智能消費(fèi)的領(lǐng)域。


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