ASML推出面向中國市場的特別版DUV光刻機，規(guī)避荷蘭銷售許可禁令。

近日，據(jù)DigiTimes報道，ASML公司試圖規(guī)避荷蘭的新銷售許可禁令，推出面向中國市場的特別版DUV光刻機。如果該項目順利推進，中芯國際、華虹等中國半導體企業(yè)將能夠繼續(xù)使用荷蘭的設備生產(chǎn)28納米及更成熟工藝的芯片。

據(jù)消息透露，這款特別版DUV光刻機是基于Twinscan NXT: 1980Di光刻系統(tǒng)進行改造的。而1980Di是10年前推出的舊型號，不在本次官方禁令范圍內(nèi)。雖然1980Di光刻機的效率相對較低，但它支持NA 1.35光學器件，分辨率可以達到小于38納米，理論上能夠支持7納米工藝。

這一舉措被認為是ASML公司試圖規(guī)避荷蘭銷售許可禁令的一種策略。荷蘭新銷售許可禁令對一些高級制造設備的出口進行了限制，其中包括用于半導體制造的光刻機。然而，ASML公司通過推出基于舊型號的特別版DUV光刻機，似乎找到了規(guī)避禁令的方法。

對于中國半導體企業(yè)來說，這款特別版DUV光刻機的推出無疑是一項重要的利好消息。中芯國際、華虹等公司將能夠繼續(xù)使用這些荷蘭設備，保持生產(chǎn)28納米及更成熟工藝的芯片的能力。

然而，這一舉措也引發(fā)了一些討論和關注。一方面，特別版DUV光刻機雖然基于舊型號進行改造，但其仍然具備支持較為先進的工藝的潛力。另一方面，ASML公司的行為是否符合荷蘭銷售許可禁令的意圖，以及是否會引發(fā)更廣泛的討論和爭議，尚待觀察。

總之，ASML公司推出面向中國市場的特別標題: "ASML推出面向中國市場的特別版DUV光刻機，規(guī)避荷蘭銷售許可禁令"